Reaktionsverhalten von Siliciumoberflächen in HF-basierte...
Das Werk befasst sich mit grundlegenden Untersuchungen von Reaktionsmustern kristalliner Si- Oberflächen in HF-basierten Ätzlösungen. Ausgehend von industriell relevanten HF - HNO3 - H2O - Gemischen wurden HF/HNO3 - Konzentrationsverhältnisse, durch gelöste Stickoxide bedingte Folgereaktionen sowie pH-Werte als wichtige Steuerparameter identifiziert. Die in diesem Kontext zentrale Rolle von Nitrosylionen wurde durch Untersuchungen von spezifischen Reaktionsmustern an as-cut und hydrophobierten Si-Oberflächen ...